上海光刻電子科技有限公司（SemiMask）成立于2000年，座落于上海市漕河涇高新技術開發區，專業從事光刻版的技術研發以及生產制造服務，公司現已成為我國集成電路、微電子行業的光刻版主要供應商，并完成了國內主要集成電路代工廠的光刻版質量認證。在產品線上將邁入高端市場，同時為微細工程領域提供相關產品和服務。近幾年，公司產品已面向海外市場，增加出口業務。在技術上長期從事物理光學，導波光學，納米技術研究與應用，光刻版生產和技術研究，在光刻版圖處理技術方面的研究有扎實的基礎，多次獲得上海市科委專項資金資助。公司擁有一支年輕有活力的核心隊伍，提倡人性化管理，注重員工價值，為每個員工提供適合的發展規劃和晉升渠道。公司將進一步改善環境，完善設施，繼續吸收人才共同發展。歡迎加入到我們的團隊中來！
聯系方式
- 公司地址：
- 上海市黃浦區北京東路666號裙樓B704室
- 固定電話：
- (021)62816727
- 經理：
- 陳開盛
- 電子郵件：
- yangwangxu84@qq.com
- 在線QQ咨詢：
- 郵政編碼：
- 200001
- 順企®采購：
- 請賣家聯系我在線采購產品
其他聯系方式
| 電子郵箱 | Linda.liu@semimask.com |
| 座機號碼 | 021-64083490 |
工商信息和基本資料
- 法人名稱：
- 上海光刻電子科技有限公司
- 簡稱：
- 光刻電子
- 主要經營產品：
- 在微電子 , 光電子 , 集成電路 , 計算機領域范圍內的“四技”服務 , 計算機軟硬件 , 集成電路 , 光學儀器 , 電子產品 , 儀器儀表 , 通訊器材（不含無線）的銷售 , （涉及許可經營的憑許可證經營）
- 經營范圍：
- 在微電子、光電子、集成電路、計算機領域范圍內的“四技“服務；計算機軟硬件、集成電路、光學與光電子器件、傳感器、電子產品、儀器儀表、節能燈和半導體照明產品的開發與銷售；從事貨物及技術的進出口業務。【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】
- 營業執照號碼：
- 310101000255829
- 發證機關：
- 黃浦區市場監督管理局
- 法人類型：
- 有限責任公司(自然人投資或控股)
- 核準日期：
- 2000-12-15
- 經營期限：
- 2030-12-14
- 經營狀態：
- 存續
- 成立時間：
- 2000年12月15日
- 注冊資本：
- 50 (萬元)
- 公司官網：
- http://www.semimask.
- 所屬行業：
- 電子加工 » 黃浦區電子加工
- 所屬城市黃頁：
- 上海企業網 » 黃浦區
- 順企編碼：
- 17785060
人才招聘
| 職位名稱 | 月薪 | 學歷要求 | 職位要求 | 發布日期 |
|---|---|---|---|---|
| 物流操作員 | 4.8千-5.4千 | 中技 | 工作內容： 1.產品取貨，包貨 ... | 2019-11-22 |
上海光刻電子科技有限公司的股東
| 股東名字 | 出資比例 | 出資額 |
|---|---|---|
| 陳開盛 | 97.500% | 人民幣195萬元 |
| 倪相佑 | 2.500% | 人民幣5萬元 |
上海光刻電子科技有限公司的工商變更記錄
| 變更項目 | 變更后 | 變更前 | 時間 |
|---|---|---|---|
| 其他變更 | 2020-10-28~2023-10-31 | 2019-10-10~2020-10-31 | 2020-10-28 |
| 其他變更 | 2019-10-10~2020-10-31 | 2018-12-25~2019-10-31 | 2019-10-10 |
| 章程修正案備案 | 2018-12-03章程修正案 | 無 | 2018-12-25 |
| 其他變更 | 2018-12-25~2019-10-31 | 2016-05-11~ | 2018-12-25 |
| 住所變更 | 上海市黃浦區制造局路787號二幢351A室 | 上海市黃浦區北京東路666號裙樓B704室 | 2018-12-25 |
上海光刻電子科技有限公司的組織架構
| 名字 | 職務 |
|---|---|
| 陳開盛 | 執行董事 |
| 倪相佑 | 監事 |
上海光刻電子科技有限公司的專利證書
| CN105891152A | 發明公布 | 2016-08-24 | 一種大量程折射率測量的方法 | 測量；測試 | 陳開盛;曹莊琪;沈益翰 |
| CN101464625A | 發明公布 | 2009-06-24 | 光刻掩模版特征線寬均一性預補償技術 | 粟鵬義 | |
| CN102478389A | 發明公布 | 2012-05-30 | 光刻掩模版金屬膜厚度測量方法 | 測量；測試 | 曹莊琪;陳開盛;沈益翰 |
| CN104359412A | 發明公布 | 2015-02-18 | 光刻掩模版鉻膜厚度測量方法 | 測量；測試 | 陳開盛;曹莊琪;沈益翰 |
| CN102692392A | 發明公布 | 2012-09-26 | 一種用于氣體、液體折射率測量的裝置 | 測量；測試 | 陳凡;曹莊琪;陳開盛 |
| CN104677315A | 發明公布 | 2015-06-03 | 硅片表面不平整度測量方法 | 測量；測試 | 陳開盛;曹莊琪;沈益翰 |
| CN102833925A | 發明公布 | 2012-12-19 | 旋入式單端電子鎮流器 | 其他類目不包含的電技術 | 陳開盛;邱榮強;沈益翰 |
| CN2638107Y | 實用新型 | 2004-09-01 | 2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版 | 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術 | 陳開盛;粟鵬義;吳進來 |
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